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      Entrevista para R and D Yield Engineer

      4 de fev. de 2011
      Candidato(a) sigiloso(a) à entrevista
      Boise, ID
      Nenhuma oferta
      Experiência negativa
      Entrevista difícil

      Candidatura

      Candidatei-me online. O processo levou 5 semanas. Fui entrevistado pela Micron Technology (Boise, ID) em fev. de 2011

      Entrevista

      I had interview with HR initially. I was scheduled to be interviewed by 3 technical people. The first round was over today. It was a big bouncer for me. I dont have much hopes from them. The questions they asked were not for my background. I am scheduled for next round in the coming week.

      Perguntas de entrevista [5]

      Pergunta 1

      Describe MOS.
      1 resposta

      Pergunta 2

      What is the effect of long channel on Voltage of MOS? What about using W, Ti ? What will be the impact on Voltage and Current characteristics of MOS? what is the effect of increasing length of the channel on MOS?
      1 resposta

      Pergunta 3

      What is the gate oxide material used for MOS?
      1 resposta

      Pergunta 4

      how will you work with doping semiconductors say P type?
      1 resposta

      Pergunta 5

      tell me about DRAM? To make matters worse, I was asked to tell the price of Micron share and its CEO.
      1 resposta
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